Spectra-Physics® lance un laser industriel 532 nm fiable et d'un faible coût
10/05/2011
Le nouveau laser industriel Mosaic 532-11 combine une tête et l'alimentation électrique dans un seul boîtier, facilitant ainsi son intégration dans les machines-outils et les systèmes de supports mobiles.
Ce laser possède des largeurs d'impulsion courtes (<15 ns), une puissance de crête élevée et peut fonctionner à des fréquences de récurrence élevées, permettant un débit supérieur, tout en minimisant les effets thermiques indésirables. Les lasers Mosaic possèdent une excellente stabilité de pointage du faisceau en champ proche et en champ lointain et une excellente stabilité entre impulsions pour des résultats homogènes et des rendements supérieurs.
Fiable, extrêmement efficace et d'un bon rapport coût-efficacité, la nouvelle plate-forme laser Mosaic est idéale pour la fabrication de produits microélectroniques et photovoltaïques (PV) et pour d'autres processus exigeants qui nécessitent un fonctionnement 24 heures sur 24 7 jours sur 7.
Les applications microélectroniques comprennent la dépose ou l'isolation des cartes de circuits imprimés, la structuration et le retrait de matière sur les cartes de circuits imprimés, le rainurage de céramique et l'ébavurage des fils de modules électroniques. Les applications photovoltaïques essentielles comprennent l'isolation des bords des plaquettes de silicium cristallin et le rainurage des couches P2 et P3 sur les panneaux solaires à couche mince.
